電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程（海達(dá)）

1 試驗(yàn)?zāi)康?/span>
本標(biāo)準(zhǔn)用于考核材料及其防護(hù)層的抗鹽霧腐蝕能力，以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較，也可用
來考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕能力。
本標(biāo)準(zhǔn)不作為通用的腐蝕試驗(yàn)方法。
2 試驗(yàn)設(shè)備
2.1 用于制造試驗(yàn)設(shè)備的材料必須是抗鹽霧腐蝕的和不影響試驗(yàn)結(jié)果的。
2.2 試驗(yàn)設(shè)備中的條件應(yīng)該保持在本標(biāo)準(zhǔn)第3章規(guī)定的限度之內(nèi)。
2.3 鹽霧不得直接噴射到試驗(yàn)樣品上。
2.4 試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)部的頂和壁等部位所聚集的水珠不得滴落在試驗(yàn)樣品上。
2.5 試驗(yàn)設(shè)備內(nèi)外氣壓必須平衡。
3 試驗(yàn)條件
3.1 鹽溶液采用氯化鈉（化學(xué)純以上）和蒸餾水配置，其濃度為5±0.1%（重量）。物化后的收集液，除
擋板擋回部分外，不得重復(fù)使用。
3.2 霧化前的鹽溶液的PH值在6.5~7.2（35℃）之間。配置鹽溶液時(shí)，允許采用化學(xué)純以上的稀鹽酸或
氫氧化鈉水溶液來調(diào)整PH值，但濃度仍須符合地3.1條的規(guī)定。
3.4 用面積為80cm2的漏斗收集連續(xù)霧化16h的鹽霧沉降量，有效空間內(nèi)任一位置的沉降率為：
1.0~2.0ml / h.80cm2。
3.5 本標(biāo)準(zhǔn)采用連續(xù)霧化，推薦的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)時(shí)間為16、24、48、96、168、336、672h。
3.6 霧化時(shí)必須防止油污、塵埃等雜質(zhì)和噴射空氣的溫、濕度影響有效空間的試驗(yàn)條件。
4 試驗(yàn)程序
4.1 初始檢測(cè)
試驗(yàn)前，試驗(yàn)樣品必須進(jìn)行外觀檢查，以及按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行其它項(xiàng)目的性能測(cè)定。試件樣品表
面必須干凈、無油污、無臨時(shí)性的防護(hù)層和其它弊病。
4.2 條件試驗(yàn)
試驗(yàn)樣品不得相互接觸，它們的間隔距離應(yīng)是不影響鹽霧能自由降落在試件樣品上，以及一個(gè)
試驗(yàn)樣品上的鹽溶液不得滴落在其它試驗(yàn)樣品上。
試驗(yàn)樣品放置位置由有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)確定，一般按產(chǎn)品和材料使用狀態(tài)放置（包括外罩等）；平板試驗(yàn)
樣品需使受試面與垂直方向成30°角。
試驗(yàn)樣品放置后按第3章規(guī)定的試驗(yàn)條件進(jìn)行條件試驗(yàn)，試驗(yàn)持續(xù)時(shí)間按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定從第3.5
條的規(guī)定中選取。
4.3 恢復(fù)
試驗(yàn)結(jié)束后，用流動(dòng)水輕輕洗掉試驗(yàn)樣品表面鹽沉積物，再在蒸餾水中漂洗，洗滌水溫不得超
過35℃，然后在標(biāo)準(zhǔn)的恢復(fù)大氣條件下恢復(fù)1~2h，或按有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的其它恢復(fù)條件和時(shí)間。
4.4 zui后檢測(cè)
恢復(fù)后的試驗(yàn)樣品應(yīng)及時(shí)檢查記錄，檢查項(xiàng)目、試驗(yàn)結(jié)果評(píng)定和合格要求均由有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定。
4.5 采用本試驗(yàn)方法時(shí)，應(yīng)對(duì)下列項(xiàng)目作出具體規(guī)定：
a.初始檢測(cè)  b.安裝細(xì)節(jié)  c.試驗(yàn)持續(xù)時(shí)間  d.恢復(fù)  e.zui后檢測(cè)